日本DENSOKU電測(cè)QNIx系列

更容易測(cè)量麻煩的薄膜厚度
便攜式薄膜厚度計(jì)，提高生產(chǎn)效率

QNIx系列產(chǎn)品只需一個(gè)超輕便的緊湊型儀器和探頭即可測(cè)量薄膜厚度，無(wú)需攜帶厚膜厚度計(jì)。
無(wú)線測(cè)量無(wú)電纜。 測(cè)量數(shù)據(jù)可以很容易地傳輸?shù)絺€(gè)人計(jì)算機(jī)，并有助于防止測(cè)量期間墜落事故。

QNIx系列的特點(diǎn)
無(wú)需膠片校準(zhǔn)即可測(cè)量薄膜厚度

提供出廠時(shí)輸入的16點(diǎn)校準(zhǔn)數(shù)據(jù)。這消除了對(duì)麻煩的膠片校準(zhǔn)工作的需要并且能夠進(jìn)行的膜厚度測(cè)量。

薄膜厚度測(cè)量數(shù)據(jù)傳輸?shù)男录夹g(shù)

傳統(tǒng)的測(cè)量?jī)x器通過(guò)將測(cè)量?jī)x器和PC與電纜連接來(lái)傳輸測(cè)量數(shù)據(jù)。 QNIx系列使用“無(wú)線Dongle”，只需將其插入U(xiǎn)SB端口即可進(jìn)行傳輸。可以快速輕松地查看測(cè)量數(shù)據(jù)。

超輕型無(wú)線測(cè)量?jī)x器

探頭測(cè)量的數(shù)據(jù)無(wú)線傳輸?shù)街鳈C(jī)。降低像常規(guī)產(chǎn)品一樣被抓住或妨礙并導(dǎo)致事故的風(fēng)險(xiǎn)。此外，探頭重30克，無(wú)需攜帶重型儀器。

探頭難以斷裂，不會(huì)在工件上留下痕跡

QNIx系列探頭被增強(qiáng)塑料包圍，耐用性提高了30％。即使它發(fā)生故障，也可以輕松拆卸和維修，縮短維修周期。此外，還附有紅寶石芯片，可在不損壞樣品（樣品）的情況下進(jìn)行安全測(cè)量。

便攜式薄膜厚度計(jì)型號(hào)代碼指導(dǎo)

[F]黑色金屬材料的非磁性薄膜厚度測(cè)量

[N]對(duì)有色金屬材料的非導(dǎo)電薄膜厚度測(cè)量

[FN]使用單個(gè)探針測(cè)量黑色和有色金屬材料的薄膜厚度

[T]微探針

[M]測(cè)量數(shù)據(jù)存儲(chǔ)功能，數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C

日本DENSOKU電測(cè)Beta線膜厚度計(jì)BTC-221

從薄到厚
新系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量

·使用個(gè)人計(jì)算機(jī)大大提高了可操作性和功能。
·高精度地測(cè)量薄到厚的物體
·也可以測(cè)量小面積
·輕松編程特殊校準(zhǔn)曲線
·計(jì)數(shù)校正很容易，不需要GM管預(yù)熱

β線膜厚度計(jì)BTC-221的特點(diǎn)
大大提高了可操作性和功能

使用個(gè)人計(jì)算機(jī)可以大大提高可用性和功能。

從薄到厚的物體測(cè)量，精度高

通過(guò)改變輻射源，可以高精度地從薄物體到厚物體進(jìn)行測(cè)量。

可以測(cè)量小面積

可以通過(guò)更換面罩來(lái)測(cè)量小面積。有各種口罩可供選擇。

輕松編程特殊校準(zhǔn)曲線

可以進(jìn)行多點(diǎn)校準(zhǔn)輸入（2到9個(gè)點(diǎn)），并且可以輕松編程特殊校準(zhǔn)曲線。

輕松計(jì)數(shù)校正

可以隨時(shí)進(jìn)行計(jì)數(shù)校正，并且可以在不加熱GM管的情況下進(jìn)行高精度測(cè)量。

多可存儲(chǔ)40條用于測(cè)量的校準(zhǔn)曲線

多可存儲(chǔ)40條用于測(cè)量的校準(zhǔn)曲線。存儲(chǔ)的校準(zhǔn)曲線可以復(fù)制到其他通道。

校準(zhǔn)曲線可以通過(guò)材料的單點(diǎn)校正進(jìn)行重新校準(zhǔn)

校準(zhǔn)曲線可以通過(guò)材料的單點(diǎn)校正進(jìn)行重新校準(zhǔn)。

設(shè)置上限和下限

您可以設(shè)置有效測(cè)量值的上限?6?7?6?7和下限。

測(cè)量膜厚度和組成比

合金膜可以測(cè)量膜厚度和組成比。

可以在直徑為80mm或更大的管道中進(jìn)行測(cè)量

如果φ80mm或更大，則可以在管道中進(jìn)行測(cè)量。

可以隨時(shí)刪除由于測(cè)量誤差導(dǎo)致的薄膜厚度值

可以隨時(shí)刪除由測(cè)量誤差引起的膜厚值。

時(shí)間和單位可以任意設(shè)定

測(cè)量時(shí)間可以任意設(shè)置1至999秒?？梢噪S時(shí)更改測(cè)量單位，μm，MI，mil，成分％和計(jì)數(shù)％，并自動(dòng)轉(zhuǎn)換測(cè)量值。

測(cè)定原理

當(dāng)物質(zhì)被β射線照射時(shí)，其部分被吸收并且其一部分被透射。 有些是透明的。 一些向后散射，劑量根據(jù)材料的厚度和外來(lái)電子的數(shù)量（電子數(shù)量）而變化。 由于隨著厚度增加直到其達(dá)到不能檢測(cè)到劑量增加的飽和厚度，反向散射量增加（或減少），所以可以通過(guò)比較基板的反向散射量與涂層的反向散射量來(lái)測(cè)量厚度。你。
因此，隨著基板和涂層之間的原子序數(shù)的差異增加，測(cè)量精度增加，并且隨著原子序數(shù)的差異減小，測(cè)量精度降低。 如果原子序數(shù)差至少為10％，則可以測(cè)量薄膜。

日本DENSOKU電測(cè)電阻膜厚度計(jì)RST-231

操作簡(jiǎn)單，時(shí)間短（0.7秒）

高精度測(cè)量絕緣體上的金屬薄膜

·在0.7秒內(nèi)測(cè)量絕緣體上的金屬膜
·使用PC輕松查看屏幕
·易于校準(zhǔn)和測(cè)量
- 可以立即查看組件圖和配置文件
·異常值檢測(cè)功能

電阻膜厚度計(jì)RST-231的特點(diǎn)
在0.7秒內(nèi)測(cè)量絕緣體上的金屬膜

在短時(shí)間（0.7秒）內(nèi)高精度地測(cè)量絕緣體上的金屬膜（絕緣銅箔，電鍍等）。

易于閱讀的屏幕配置

使用PC時(shí)，屏幕結(jié)構(gòu)大而明亮，易于查看。

易于校準(zhǔn)和測(cè)量

易于校準(zhǔn)和測(cè)量?？梢赃x擇兩種類型的測(cè)量范圍（2至24μm，10至120μm）。

可以立即看到各種數(shù)字

統(tǒng)計(jì)處理后，立即可以使用直方圖，配置文件和x-R圖表。

異常值檢測(cè)功能

如果設(shè)置上下薄膜厚度限制，將通知您異常值。

支持每個(gè)探頭的更換

如果探頭損壞，可以更換每個(gè)探頭，并且可以低成本進(jìn)行維修。

易于統(tǒng)計(jì)處理

可以為每個(gè)通道保存測(cè)量數(shù)據(jù)，并且可以稍后為測(cè)量數(shù)據(jù)設(shè)置統(tǒng)計(jì)項(xiàng)以執(zhí)行統(tǒng)計(jì)處理。

多可注冊(cè)40個(gè)頻道

多可注冊(cè)40個(gè)通道，因此您可以通過(guò)用戶名或部件號(hào)單獨(dú)注冊(cè)來(lái)管理通道。

支持每個(gè)探頭的更換

使用四探針探針（開(kāi)爾文型），并且可以高精度地測(cè)量雙面和多層基板，而不受背面和內(nèi)層的影響。

 

測(cè)定原理

探頭有四個(gè)直立的金屬銷（探頭）。使這四個(gè)探針與待測(cè)量的絕緣體上的金屬箔或金屬電鍍表面接觸。 恒定電流（I）通過(guò)兩個(gè)外部探針并測(cè)量電壓（V）。 接觸探針的金屬箔或金屬鍍層的厚度（T）可以在某些條件下使用下式計(jì)算。T = K×I÷V其中K是常數(shù)因此，可以通過(guò)測(cè)量?jī)蓚€(gè)內(nèi)探針之間的電壓來(lái)測(cè)量金屬箔或金屬鍍層的厚度。

日本DENSOKU渦流膜厚度計(jì)D-20

小巧便攜
薄膜厚度計(jì)，可以滿足短時(shí)間測(cè)量的時(shí)代需求

·重量輕，結(jié)構(gòu)緊湊，重量為2.0kg
·一旦開(kāi)關(guān)打開(kāi)，測(cè)量就開(kāi)始，測(cè)量時(shí)間在1秒之內(nèi)。
·晶體振蕩法具有高穩(wěn)定性（±1％）和高精度
·非破壞性，100％檢查是可能的
·由于直接閱讀，無(wú)需轉(zhuǎn)換

渦流膜厚度計(jì)D-20的特點(diǎn)
輕巧緊湊

你可以攜帶它。

可立即測(cè)量

可以在開(kāi)關(guān)打開(kāi)的同時(shí)進(jìn)行測(cè)量。測(cè)量時(shí)間也在1秒內(nèi)。

高穩(wěn)定性（±1％）高精度

通過(guò)晶體振蕩方法具有高穩(wěn)定性（±1％）和高精度。

可以100％檢查

100％檢查是可能的，因?yàn)樗欠瞧茐男缘摹?/p>

無(wú)需轉(zhuǎn)換

不需要直接轉(zhuǎn)換。

兼容各種測(cè)量

可以在金屬上測(cè)量薄膜，電鍍，涂漆，樹脂等（例如：在鋁上鍍氧化膜，在鐵上鍍鋅等）。

成為的測(cè)量?jī)x器

只需更換刻度盤，它就成了的測(cè)量?jī)x器。

測(cè)量面積3m2以上

兼容3m2或更大的測(cè)量區(qū)域。

還測(cè)量非金屬上的金屬膜

可以測(cè)量非金屬上的金屬薄膜（例如塑料上的鍍層）。

即使在曲面，球體和管道內(nèi)也可以進(jìn)行測(cè)量

即使對(duì)于彎曲和球形表面也可以進(jìn)行測(cè)量。它還可以測(cè)量管道的內(nèi)表面（φ12.7mm或更大）。

測(cè)定原理

當(dāng)已經(jīng)通過(guò)高頻電流的探針（測(cè)量線圈）接近金屬時(shí)，在金屬表面層中產(chǎn)生渦電流。 該渦電流受到高頻磁場(chǎng)的強(qiáng)度和頻率，金屬的導(dǎo)電性，厚度和形狀的影響，并且穿透深度和尺寸變化。
渦電流流動(dòng)以抵消探頭的高頻磁場(chǎng)，因此探頭的高頻電阻發(fā)生變化。 這種高頻電阻的變化被放大并顯示在儀表上。 通過(guò)這樣做，可以從儀表的波動(dòng)中讀取膜厚度值。 薄膜厚度值和儀表跳動(dòng)通常不成比例，因此使用直讀刻度板直接讀取薄膜厚度值。

日本DENSOKU渦流膜厚度計(jì)DS-110

晶體振蕩精度高
可以在短的測(cè)量時(shí)間內(nèi)測(cè)量曲面和球面

·測(cè)量值顯示數(shù)字且易于閱讀
·一旦開(kāi)關(guān)打開(kāi)，測(cè)量就開(kāi)始，測(cè)量時(shí)間在1秒之內(nèi)。
·晶體振蕩法具有高穩(wěn)定性（±1％）和高精度
·非破壞性，100％檢查是可能的
·由于直接閱讀，無(wú)需轉(zhuǎn)換

渦流膜厚度計(jì)DS-110的特點(diǎn)
易于閱讀數(shù)字

測(cè)量值顯示是數(shù)字的，易于閱讀。

可立即測(cè)量

可以在開(kāi)關(guān)打開(kāi)的同時(shí)進(jìn)行測(cè)量。測(cè)量時(shí)間也在1秒內(nèi)。

高穩(wěn)定性（±1％）高精度

通過(guò)晶體振蕩方法具有高穩(wěn)定性（±1％）和高精度。

可以100％檢查

100％檢查是可能的，因?yàn)樗欠瞧茐男缘摹?/p>

無(wú)需轉(zhuǎn)換

不需要直接轉(zhuǎn)換。

兼容各種測(cè)量

可以測(cè)量金屬上的薄膜，電鍍，涂層，樹脂等。 （例如：在鋁上鍍鋅，在鐵上鍍鋅等）

多可保存1000個(gè)數(shù)據(jù)

可以使用一條檢測(cè)線保存1000個(gè)數(shù)據(jù)。

還測(cè)量非金屬上的金屬膜

可以測(cè)量非金屬上的金屬薄膜（例如塑料上的鍍層）。

可以測(cè)量4種標(biāo)準(zhǔn)和多70種薄膜厚度。

通過(guò)切換開(kāi)關(guān)，可以測(cè)量多達(dá)4種類型的薄膜厚度。此外，通過(guò)更換制造商處的檢查線，可以測(cè)量超過(guò)70種類型的膜厚度。

即使在曲面，球體和管道內(nèi)也可以進(jìn)行測(cè)量

即使對(duì)于彎曲和球形表面也可以進(jìn)行測(cè)量。它還可以測(cè)量管道的內(nèi)表面（φ12.7mm或更大）。

打印輸出功能

打印出測(cè)量數(shù)據(jù)和統(tǒng)計(jì)處理值

測(cè)定原理

當(dāng)已經(jīng)通過(guò)高頻電流的探針（測(cè)量線圈）接近金屬時(shí)，在金屬表面層中產(chǎn)生渦電流。 該渦電流受到高頻磁場(chǎng)的強(qiáng)度和頻率，金屬的導(dǎo)電性，厚度和形狀的影響，并且穿透深度和尺寸變化。
渦電流流動(dòng)以抵消探頭的高頻磁場(chǎng)，因此探頭的高頻電阻發(fā)生變化。 高頻電阻值的這種變化被放大，曲線校正，并顯示為數(shù)字值。 因此，膜厚度值可以直接讀取為數(shù)字。 通過(guò)微計(jì)算機(jī)計(jì)算執(zhí)行曲線校正。 因此，它非常準(zhǔn)確且高度穩(wěn)定

日本DENSOKU渦流膜厚度計(jì)DMC-211

高速和可操作性
短時(shí)非破壞性測(cè)量是100％檢測(cè)的理想選擇

·1秒內(nèi)無(wú)損測(cè)量，100％檢測(cè)
·使用個(gè)人計(jì)算機(jī)輕松校準(zhǔn)和測(cè)量操作
·只需將探頭放在物體上并釋放它，即可自動(dòng)捕獲測(cè)量值
-70特性曲線（校準(zhǔn)曲線）作為標(biāo)準(zhǔn)
·為每個(gè)渠道注冊(cè)公司名稱，部件號(hào)和批號(hào)。

渦流膜厚度計(jì)DMC-211的特點(diǎn)
數(shù)字顯示測(cè)量值，讀數(shù)

幾乎所有金屬薄膜（鋁上的氧化膜，鐵上的鋅/鉻鍍層等），非金屬上的大多數(shù)金屬薄膜（塑料上的電鍍等）在短時(shí)間內(nèi)（1秒內(nèi)）無(wú)損測(cè)量，非常適合100％檢測(cè)。

使用PC輕松操作

通過(guò)使用個(gè)人計(jì)算機(jī)進(jìn)行校準(zhǔn)和測(cè)量等簡(jiǎn)單操作?？梢赃x擇各種測(cè)量模式，便于測(cè)量螺釘頭，線材和壓鑄產(chǎn)品等小零件。

配備[自動(dòng)導(dǎo)入]模式

在[自動(dòng)采集]模式下，只需將探頭放在待測(cè)物體上并松開(kāi)即可自動(dòng)獲取測(cè)量值。

豐富的特征曲線記憶（校準(zhǔn)曲線）

70個(gè)自動(dòng)選擇特性曲線（校準(zhǔn)曲線）作為標(biāo)準(zhǔn)存儲(chǔ)。對(duì)于特殊材料，如果有標(biāo)準(zhǔn)板，則可以創(chuàng)建并輸入新的特征曲線（校準(zhǔn)曲線）。

公司信息渠道注冊(cè)功能

可以為每個(gè)渠道注冊(cè)公司名稱，部件號(hào)和批號(hào)。
總頻道：40個(gè)頻道

配備統(tǒng)計(jì)處理功能

可以為每個(gè)通道保存測(cè)量數(shù)據(jù)，并且可以在以后統(tǒng)計(jì)設(shè)置和統(tǒng)計(jì)統(tǒng)計(jì)項(xiàng)目。

計(jì)量單位

測(cè)量單位是mm，μm，mil，MI。
可以隨時(shí)更改設(shè)備，并自動(dòng)轉(zhuǎn)換測(cè)量值。

測(cè)定原理

當(dāng)已經(jīng)通過(guò)高頻電流的探針（測(cè)量線圈）接近金屬時(shí)，在金屬表面層中產(chǎn)生渦電流。 該渦電流受到高頻磁場(chǎng)的強(qiáng)度和頻率，金屬的導(dǎo)電性，厚度和形狀的影響，并且穿透深度和尺寸變化。渦電流流動(dòng)以抵消探頭的高頻磁場(chǎng)，因此探頭的高頻電阻發(fā)生變化。 這種高頻電阻變化的幅度通常與薄膜厚度值不成比例，因此它會(huì)根據(jù)內(nèi)部或用戶創(chuàng)建的特性曲線（校準(zhǔn)曲線）轉(zhuǎn)換為薄膜厚度值并顯示在PC屏幕上。顯示量。

日本DENSOKU電測(cè)電解式膜厚計(jì)CT-3

重量輕，機(jī)身小巧

各種電鍍測(cè)量的高可操作性和功能性

·輕巧，緊湊的機(jī)身，體重3.0kg
·可從任何電鍍范圍測(cè)量
·增加了高靈敏度范圍
·校準(zhǔn)范圍寬達(dá)±15％
·C墊片范圍的標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備

電解膜厚度計(jì)CT-3的特點(diǎn)
輕巧緊湊

輕巧，極其緊湊的機(jī)身，體重3.0kg。

增加了高靈敏度范圍

靈敏度可以設(shè)置為比以前的型號(hào)更高的靈敏度，并且可以提高測(cè)量穩(wěn)定性。

廣泛的校準(zhǔn)范圍

通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)板校準(zhǔn)的校準(zhǔn)范圍寬達(dá)±15％。

可以達(dá)到1/100的范圍

可以處理Au，Cr等的薄膜電鍍的1/100范圍（以0.001μm為單位的測(cè)量）是可能的。

三種類型的墊圈范圍是標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備

有三種類型的墊圈可供選擇：3.4φ，2.4φ和1.7φ。

主動(dòng)功能

有源功能可以去除一些氧化膜，從而減少氧化膜引起的測(cè)量失敗
我能做到

易于設(shè)置范圍

由于使用了所有刻度盤設(shè)置，因此可以輕松實(shí)現(xiàn)要測(cè)量的鍍層的適合設(shè)置。

日本DENSOKU電測(cè)電解式膜厚計(jì)CT-4

0.006至300微米，各種厚度
多層電鍍測(cè)量，精度高

·易于操作，易于閱讀的屏幕
·電流精度明顯高于以前
·可以確認(rèn)測(cè)量部件的表面處理方法
·多層涂層可設(shè)置多達(dá)5種測(cè)量條件
·多可注冊(cè)50個(gè)測(cè)量通道

電解膜厚度計(jì)CT-4的特點(diǎn)
易于操作，易于閱讀的屏幕

屏幕大，明亮，易于查看，易于操作。

提高電流精度

目前的準(zhǔn)確度已得到顯著改善。

可以檢查表面處理方法

您可以檢查測(cè)量部件的表面處理方法。

測(cè)量條件多可設(shè)置為5層

多層涂層可以設(shè)置多達(dá)5種測(cè)量條件。

多可注冊(cè)50個(gè)頻道

多可以注冊(cè)50個(gè)測(cè)量通道。

可分別測(cè)量純錫層和合金錫層

對(duì)于純錫層和合金錫層，可以分別測(cè)量鍍錫。

自動(dòng)顯示所用電解質(zhì)的類型

所用電解質(zhì)的類型根據(jù)薄膜和基材的組合自動(dòng)顯示。

內(nèi)置統(tǒng)計(jì)處理功能

通過(guò)統(tǒng)計(jì)處理功能，可以在屏幕上顯示數(shù)據(jù)。

5種數(shù)據(jù)處理方法

有五種數(shù)據(jù)處理方法。

用日文打印

打印機(jī)使用熱敏卷紙，可以用日文打印。

每單位面積的重量計(jì)算

您可以計(jì)算每單位面積的重量。

日本DENSOKU電測(cè)電解式膜厚計(jì)GCT-311

Windows規(guī)范，
全功能可測(cè)量多達(dá)5層

·使用個(gè)人計(jì)算機(jī)，操作簡(jiǎn)單，功能增強(qiáng)
- 使用Windows規(guī)范輕松處理數(shù)據(jù)
·多可注冊(cè)50個(gè)測(cè)量通道
·多層涂層可設(shè)置多達(dá)5種測(cè)量條件
·發(fā)生異常值時(shí)，以紅色和警告聲音報(bào)告測(cè)量值。

電解膜厚度計(jì)GCT-311的特點(diǎn)
改進(jìn)了可操作性和增強(qiáng)功能

使用個(gè)人計(jì)算機(jī)可改善可操作性和功能。

輕松的數(shù)據(jù)處理

使用Windows規(guī)范可以輕松進(jìn)行數(shù)據(jù)處理。

多可注冊(cè)50個(gè)頻道

多可以注冊(cè)50個(gè)測(cè)量通道。

多層涂層，多5層

多層涂層可以設(shè)置多達(dá)5種測(cè)量條件。

發(fā)生異常值時(shí)內(nèi)置警告功能

當(dāng)由于上限和下限設(shè)置而發(fā)生異常值時(shí)，測(cè)量值將顯示為紅色并顯示警告聲。

自動(dòng)顯示所用電解質(zhì)的類型

所用電解質(zhì)的類型根據(jù)薄膜和基材的組合自動(dòng)顯示。

輕松確認(rèn)顯示處理方法

您可以檢查測(cè)量單元的顯示處理方法。

可分別測(cè)量純錫層和合金錫層

對(duì)于純錫層和合金錫層，可以單獨(dú)測(cè)量“錫/銅”測(cè)量。

輕松測(cè)量雙鎳和三鎳之間的電位差

通過(guò)使用參比電極（可選）和電位圖測(cè)量，可以容易地測(cè)量雙鎳和三鎳之間的電位差。

日本DENSOKU電測(cè)X射線熒光膜厚度計(jì)COSMOS-3X

節(jié)省空間小
極小的部件，具有出色的可操作性
以高精度測(cè)量

·使用雙重濾波器，以高精度和適合條件進(jìn)行測(cè)量
- 即使在使用多任務(wù)功能進(jìn)行測(cè)量期間，也可以進(jìn)行其他處理，包括創(chuàng)建報(bào)告。
·小準(zhǔn)直器為0.05mm，可以測(cè)量極小的部件

X射線熒光膜厚度計(jì)COSMOS-3X的特點(diǎn)
采用雙濾波器

除數(shù)字濾波器外，還可以使用機(jī)械濾波器（雙濾波器）在適合條件下進(jìn)行測(cè)量，以便始終獲得高精度。

增強(qiáng)的報(bào)告創(chuàng)建功能

通過(guò)采用MS-Windows軟件，您可以輕松捕獲測(cè)量屏幕并增強(qiáng)報(bào)告創(chuàng)建功能。多任務(wù)功能可以啟用其他過(guò)程，包括在測(cè)量期間創(chuàng)建報(bào)告。

內(nèi)置5種準(zhǔn)直器

準(zhǔn)直器的小部分為0.1φmm，可以測(cè)量極小的部件。標(biāo)準(zhǔn)，0.1,0.2,0.5,1.0,2.0
此外，還有兩種特殊規(guī)格可供選擇。
·0.05,0.1,0.2,0.3,0.5
·0.05×0.5,0.5×0.05,0.1,0.2,0.5

自診斷功能和X射線管維護(hù)功能

自我診斷功能迅速處理設(shè)備故障解決。此外，它還通過(guò)添加顯示X射線管的使用時(shí)間和耐久時(shí)間的功能來(lái)支持維護(hù)安全性。

薄膜厚度測(cè)量期間的光譜顯示

通過(guò)多通道的頻譜分析的高速處理，通過(guò)簡(jiǎn)單的操作來(lái)執(zhí)行被測(cè)對(duì)象的頻譜顯示。 （處理速度約2-3秒）

顯示測(cè)量單位的監(jiān)視圖像

將X射線照射單元導(dǎo)入Windows屏幕并顯示X射線照射單元。實(shí)現(xiàn)放大倍率變化功能，通過(guò)準(zhǔn)直器改變尺寸。

 使用Be window X射線管（可選）提高性能（高精度）

我們?yōu)闊晒釾射線膠片厚度計(jì)EX-731準(zhǔn)備了Be窗口X射線管（可選）。

是的。通過(guò)使用此選項(xiàng)，可以在Cr測(cè)量和Ni測(cè)量中重復(fù)測(cè)量精度
將大大改善。

關(guān)于績(jī)效改進(jìn)的評(píng)論

高能量（高原子序數(shù)）Sn測(cè)量與以前相同，但能量低（原子序數(shù)低）

No。）在Cr和Ni測(cè)量的情況下，根據(jù)膜厚度，Cr為3倍或更多，Ni為2倍或更多。
返回精度得到了提高。在用于表面層的Au的情況下，在兩層測(cè)量中，一點(diǎn)點(diǎn)
由于精度提高的貢獻(xiàn)，層間Ni已經(jīng)提高了約20％。 X射線熒光膜厚度計(jì)
在重復(fù)測(cè)量精度（標(biāo)準(zhǔn)偏差）的情況下，獲得產(chǎn)生熒光X射線強(qiáng)度的過(guò)程。
這是由于統(tǒng)計(jì)波動(dòng)，并應(yīng)用Be窗口X射線管（可選）
在Cr的情況下，它表明熒光X射線強(qiáng)度比傳統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)機(jī)器高約9倍。
有你。因此，可以在短時(shí)間內(nèi)執(zhí)行與之前相同精度的測(cè)量。






 

日本DENSOKU電測(cè)X射線熒光膜厚度計(jì)EX-731

以高精度測(cè)量極小部件，具有出色的可操作性
可以測(cè)量大尺寸的基礎(chǔ)

·使用雙重濾波器，以高精度和適合條件進(jìn)行測(cè)量
- 通過(guò)將鼠標(biāo)定位在測(cè)量位置來(lái)實(shí)現(xiàn)快速定位
- 即使在使用多任務(wù)功能進(jìn)行測(cè)量期間，也可以進(jìn)行其他處理，包括創(chuàng)建報(bào)告。
·小準(zhǔn)直器為0.05mm，可以測(cè)量極小的部件

X-7熒光膜厚度計(jì)EX-731的特點(diǎn)
采用雙濾波器

除數(shù)字濾波器外，還可以使用機(jī)械濾波器（雙濾波器）在適合條件下進(jìn)行測(cè)量，以便始終獲得高精度。

自動(dòng)測(cè)量階段

通過(guò)將鼠標(biāo)移動(dòng)到測(cè)量位置來(lái)實(shí)現(xiàn)快速定位。此外，如果您注冊(cè)測(cè)量位置，則可以進(jìn)行連續(xù)自動(dòng)測(cè)量。通過(guò)坐標(biāo)校正和通道鏈接支持各種模式。標(biāo)準(zhǔn)板校準(zhǔn)也可以自動(dòng)測(cè)量。

增強(qiáng)的報(bào)告創(chuàng)建功能

通過(guò)采用MS-Windows軟件，您可以輕松捕獲測(cè)量屏幕并增強(qiáng)報(bào)告創(chuàng)建功能。多任務(wù)功能可以啟用其他過(guò)程，包括在測(cè)量期間創(chuàng)建報(bào)告。

內(nèi)置5種準(zhǔn)直器

準(zhǔn)直器的小部分為0.1φmm，可以測(cè)量極小的部件。標(biāo)準(zhǔn)，0.1,0.2,0.5,1.0,2.0
此外，還有兩種特殊規(guī)格可供選擇。
·0.05,0.1,0.2,0.3,0.5
·0.05×0.5,0.5×0.05,0.1,0.2,0.5

自診斷功能和X射線管維護(hù)功能

自我診斷功能迅速處理設(shè)備故障解決。此外，它還通過(guò)添加顯示X射線管的使用時(shí)間和耐久時(shí)間的功能來(lái)支持維護(hù)安全性。

薄膜厚度測(cè)量期間的光譜顯示

通過(guò)多通道的頻譜分析的高速處理，通過(guò)簡(jiǎn)單的操作來(lái)執(zhí)行被測(cè)對(duì)象的頻譜顯示。 （處理速度約2-3秒）

顯示測(cè)量單位的監(jiān)視圖像

將X射線照射單元導(dǎo)入Windows屏幕并顯示X射線照射單元。實(shí)現(xiàn)放大倍率變化功能，通過(guò)準(zhǔn)直器改變尺寸。

目測(cè)顯示被測(cè)物體的鍍層附著力分布

使用3D圖形顯示可以一目了然地看到被測(cè)物體的鍍層厚度分布。

 使用Be window X射線管（可選）提高性能（高精度）

我們?yōu)闊晒釾射線膠片厚度計(jì)EX-731準(zhǔn)備了Be窗口X射線管（可選）。

是的。通過(guò)使用此選項(xiàng)，可以在Cr測(cè)量和Ni測(cè)量中重復(fù)測(cè)量精度將大大改善。

關(guān)于績(jī)效改進(jìn)的評(píng)論

高能量（高原子序數(shù)）Sn測(cè)量與以前相同，但能量低（原子序數(shù)低）

No。）在Cr和Ni測(cè)量的情況下，根據(jù)膜厚度，Cr為3倍或更多，Ni為2倍或更多。
返回精度得到了提高。在用于表面層的Au的情況下，在兩層測(cè)量中，一點(diǎn)點(diǎn)
由于精度提高的貢獻(xiàn)，層間Ni已經(jīng)提高了約20％。 X射線熒光膜厚度計(jì)
在重復(fù)測(cè)量精度（標(biāo)準(zhǔn)偏差）的情況下，獲得產(chǎn)生熒光X射線強(qiáng)度的過(guò)程。
這是由于統(tǒng)計(jì)波動(dòng)，并應(yīng)用Be窗口X射線管（可選）
在Cr的情況下，它表明熒光X射線強(qiáng)度比傳統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)機(jī)器高約9倍。
有你。因此，可以在短時(shí)間內(nèi)執(zhí)行與之前相同精度的測(cè)量。
請(qǐng)考慮采用這種Be窗口X射線管。

日本DENSOKU電測(cè)X射線熒光膜厚度計(jì)EX-851

自動(dòng)對(duì)焦
可以選擇兩種測(cè)量模式，使測(cè)量工作更加順暢

全自動(dòng)對(duì)焦模式
⇒用激光指示器設(shè)置要照射的物體并關(guān)閉門。
舞臺(tái)自動(dòng)移動(dòng)和測(cè)量。
·半自動(dòng)對(duì)焦模式
⇒以與上面的全自動(dòng)對(duì)焦模式相同的方式設(shè)置測(cè)量對(duì)象。
¡當(dāng)門關(guān)閉時(shí)，舞臺(tái)自動(dòng)移動(dòng)并聚焦。
直到手術(shù)。

X-8熒光膜厚度計(jì)EX-851的特點(diǎn)
自動(dòng)對(duì)焦

只需將測(cè)量部件移動(dòng)到激光指示器的位置，然后關(guān)閉門以自動(dòng)移動(dòng)到測(cè)量值并執(zhí)行測(cè)量。測(cè)量后，當(dāng)門打開(kāi)時(shí)，舞臺(tái)自動(dòng)返回到前面。

自動(dòng)測(cè)量階段

通過(guò)將鼠標(biāo)移動(dòng)到測(cè)量位置來(lái)實(shí)現(xiàn)快速定位。此外，如果您注冊(cè)測(cè)量位置，則可以進(jìn)行連續(xù)自動(dòng)測(cè)量。通過(guò)坐標(biāo)校正和通道鏈接支持各種模式。標(biāo)準(zhǔn)板校準(zhǔn)也可以自動(dòng)測(cè)量。

采用雙濾波器

除數(shù)字濾波器外，還可以使用機(jī)械濾波器（雙濾波器）在適合條件下進(jìn)行測(cè)量，以便始終獲得高精度。

增強(qiáng)的報(bào)告創(chuàng)建功能

通過(guò)采用MS-Windows軟件，您可以輕松捕獲測(cè)量屏幕并增強(qiáng)報(bào)告創(chuàng)建功能。多任務(wù)功能可以啟用其他過(guò)程，包括在測(cè)量期間創(chuàng)建報(bào)告。

內(nèi)置5種準(zhǔn)直器

準(zhǔn)直器的小部分為0.1φmm，可以測(cè)量極小的部件。標(biāo)準(zhǔn)，0.1,0.2,0.5,1.0,2.0
此外，還有兩種特殊規(guī)格可供選擇。
·0.05,0.1,0.2,0.3,0.5
·0.05×0.5,0.5×0.05,0.1,0.2,0.5

自診斷功能和X射線管維護(hù)功能

自我診斷功能迅速處理設(shè)備故障解決。此外，它還通過(guò)添加顯示X射線管的使用時(shí)間和耐久時(shí)間的功能來(lái)支持維護(hù)安全性。

薄膜厚度測(cè)量期間的光譜顯示

通過(guò)多通道的頻譜分析的高速處理，通過(guò)簡(jiǎn)單的操作來(lái)執(zhí)行被測(cè)對(duì)象的頻譜顯示。 （處理速度約2-3秒）

顯示測(cè)量單位的監(jiān)視圖像

將X射線照射單元導(dǎo)入Windows屏幕并顯示X射線照射單元。實(shí)現(xiàn)放大倍率變化功能，通過(guò)準(zhǔn)直器改變尺寸。

目測(cè)顯示被測(cè)物體的鍍層附著力分布

使用3D圖形顯示可以一目了然地看到被測(cè)物體的鍍層厚度分布。

 使用Be window X射線管（可選）提高性能（高精度）

我們?yōu)闊晒釾射線膠片厚度計(jì)EX-731準(zhǔn)備了Be窗口X射線管（可選）。

是的。通過(guò)使用此選項(xiàng)，可以在Cr測(cè)量和Ni測(cè)量中重復(fù)測(cè)量精度將大大改善。

關(guān)于績(jī)效改進(jìn)的評(píng)論

 高能量（高原子序數(shù)）Sn測(cè)量與以前相同，但能量低（原子序數(shù)低）

No。）在Cr和Ni測(cè)量的情況下，根據(jù)膜厚度，Cr為3倍或更多，Ni為2倍或更多。
返回精度得到了提高。在用于表面層的Au的情況下，在兩層測(cè)量中，一點(diǎn)點(diǎn)
由于精度提高的貢獻(xiàn)，層間Ni已經(jīng)提高了約20％。 X射線熒光膜厚度計(jì)
在重復(fù)測(cè)量精度（標(biāo)準(zhǔn)偏差）的情況下，獲得產(chǎn)生熒光X射線強(qiáng)度的過(guò)程。
這是由于統(tǒng)計(jì)波動(dòng)，并應(yīng)用Be窗口X射線管（可選）
在Cr的情況下，它表明熒光X射線強(qiáng)度比傳統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)機(jī)器高約9倍。

因此，可以在短時(shí)間內(nèi)執(zhí)行與之前相同精度的測(cè)量。
請(qǐng)考慮采用這種Be窗口X射線管。