日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統(tǒng)

通過在外殼中內置TMP來實現緊湊的外殼。由于它是臺式機類型，因此不會占用空間。RP被放置在地板上。
我們以低價提供帶有小TMP + RP排氣系統(tǒng)的清潔，高真空氣相沉積設備。一個簡單的操作系統(tǒng)，消除了復雜的排氣操作，僅打開和關閉開關。
可以使用鎢筐沉積金，鋁，鉻，銀等。對于碳氣相沉積，使用了一種鉗式氣相沉積槍型，它會隨著碳的蒸發(fā)而蒸發(fā)鋒利的鉛筆型替換芯。（不能使用Φ5mm碳棒。）

購買時，我們將選擇碳氣相沉積電極或金屬氣相沉積電極?？梢赃x擇購買其他電極。

碳蒸鍍電極

Φ0.5mm碳蒸鍍電極，僅用于碳。
它能夠在高真真空區(qū)中沉積碳，并且可以形成具有優(yōu)異膜質量和膜強度的碳膜。
附帶的防污蓋可醉大程度地減少碳蒸氣沉積的擴散范圍，并減少清潔負擔。
建議使用碳SLC-30作為碳氣相沉積源。

金屬氣相

沉積電極這是專門用于鎢筐的金屬氣相沉積電極。
可以輕松地沉積金，鋁，鉻等。隨附的防污罩可醉大程度地減少氣相沉積范圍，并減少清潔負擔。

主要產品規(guī)格

關于選項

2018.11.01

選配

對于氣相沉積設備，我們?yōu)楦鞣N實驗應用提供大量選擇。此選項是一個正常的示例。我們也接受根據客戶所需規(guī)格的修改，因此請與我們聯系。VE-2012 ...

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